地膜掩盖栽培的效应是进步土壤温度，春季低温期间采用地膜掩盖白昼受阳光映照后，0－10厘米深的土层内可进步温度1－6℃，高可达8℃以上。进入高温期，若无遮阴，地膜下土壤表层的温度可达50－60℃，土壤干旱时，地表温度会更高。但在有作物遮荫时，或地膜外表有土或淤泥掩盖时，土温只比露地高1－5℃，土壤湿润时土温还会比露地低0.5-1.0℃，高可低3℃。夜间由于外界冷空气的影响地膜下的土壤温度只比露地高1－2℃。地膜掩盖的增温效应因掩盖时期、掩盖方式、天气条件及地膜品种不同而异。
不良影响
但是地膜掩盖栽培中相应产生一些不良影响，如多年掩盖地膜，残膜肃清不净，形成土壤污染，由于盖膜后有机质合成快，作物应用率高，肥料补充的少，使土地肥力降落或因掩盖膜的管理不当也会形成早熟不增产，以至有减产现象。在旱沙地、瘠薄土地、重粘质土地上，不宜采用地膜掩盖栽培。由于旱沙地盖膜后土壤温度在中午时易产生高温，在干旱比拟严重的状况下反而会形成减产。在瘠薄土地上，掩盖膜后不便追肥，播种时施用基肥缺乏，掩盖也不能增产。重粘质土地在干旱时坷拉多，整地时难以耙碎，盖膜后很难与空中贴紧，刮大风时地膜容易吹破，刮跑。因而，采用地膜掩盖栽培必需控制一定条件才干到达早熟高产，稳产地目的。本文章源于http://www.xiguamo.com/，联系方式：0533-7401878。

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